기출노트
⚙️ 일반기계직 · 기계일반
기출문제
요약노트
오답노트
내 기록
게시판
홈
기출노트
9급 서울시 일반기계직
기계일반
9급 지방직 공무원 서울시 기계일반 (2018-06-23)
2번
2 / 20
전체 회차 →
화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD)에 대한 설명으로 가장 옳지 않은 것은?
1
화학반응 또는 가스분해에 의해 가열된 기판 표면 위에 박막을 성장시키는 공정이다.
2
CVD는 인(P) 불순물이 섞인 이산화규소처럼 도핑된 SiO2의 층을 만드는 데 사용될 수 있다.
3
일반적으로 화학기상증착에 의해 생성된 실리콘 산화물막의 밀도와 기판에 대한 접합성은 열산화에 의해 생성된 것보다 우수하다.
4
반도체 웨이퍼 공정에 이산화실리콘, 질화실리콘 및 실리콘층을 추가하기 위해 널리 사용된다.
5
보기를 선택하세요
← 1번
문제 목록
3번 →