두께가 2 nm이고, 높이가 4 eV인 포텐셜 장벽에 에너지가 0.1 eV인 입자가 입사한다. 이 입자가 양자 터널링(tunneling) 효과에 의하여 이 장벽을 투과할 확률이 T0이다. 동일 조건에서 장벽의 두께를 3 nm로 하였을 때, 입자가 장벽을 투과할 확률을 T0의 함수로 표시한 것은?
